蝕刻技術(shù)屬于感光化學(xué)技術(shù)領(lǐng)域,是用光刻腐蝕加工薄形精密金屬制品的一種方法。最早可用來制造銅版、鋅版等印刷凹凸版，經(jīng)過不斷改良和工藝設(shè)備發(fā)展，亦可以用于航空、機(jī)械、化學(xué)工業(yè)中電子薄片零件精密蝕刻產(chǎn)品的加工，特別在半導(dǎo)體制程上，蝕刻更是不可或缺的技術(shù)。
　　金屬蝕刻是將材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)。金屬蝕刻材料：優(yōu)質(zhì)不銹鋼、金屬、合金薄板或帶、一般厚度為0.5mm。制作工藝：化學(xué)法浸蝕。金屬蝕刻用途：金屬蝕刻用于集成電路印刷，熒光屏電子格柵，精確過濾，微電極元件，電子行業(yè)的平面引腳、引線框架、基片等。還可制造標(biāo)牌、商標(biāo)及精美工藝品。
　　金屬蝕刻技術(shù)優(yōu)勢：1金屬蝕刻技術(shù)改進(jìn)了傳統(tǒng)的金屬處理方法。2、這種金屬蝕刻技術(shù)可以通過數(shù)據(jù),設(shè)計(jì)及復(fù)雜的柱狀等來加工凹凸的金屬產(chǎn)品。3、蝕刻技術(shù)可以用于制作為孔型及各種形式。蝕刻化學(xué)反應(yīng)過程中所產(chǎn)生的氣泡常會(huì)造成蝕刻的不均勻性，氣泡留滯于基材上阻止了蝕刻溶液與待蝕刻物表面的接觸，將使得蝕刻速率變慢或停滯，直到氣泡離開基材表面。因此在這種情況下會(huì)在溶液中加入一些催化劑增進(jìn)蝕刻溶液與待蝕刻物表面的接觸，并在蝕刻過程中予于攪動(dòng)以加速氣泡的脫離。金屬蝕刻技術(shù)廣泛應(yīng)用于集成電路、熒光顯示屏、精確過濾、微電極等方面。

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