坪山鋁網(wǎng)蝕刻技術(shù)

這與印件表面特性、電化鋁的性質(zhì)、燙印溫度及壓力等多種因素有關(guān)。①印件表面噴粉 太多或表面含有撤粘劑、亮光漿之類的添加劑，這將妨礙電化鋁與紙張的吸附。解決辦法：表面去粉處理或在印刷工藝中解決。②電化鋁選用不當直接影響燙金牢度。應(yīng)根據(jù)燙金面積的大小，被燙印材料的特性綜合考慮選用什么型號的電化鋁。國產(chǎn)電化鋁主要是上海申永燙金材料有限公司生產(chǎn)的孔雀牌系列，進口電化鋁主要是德國庫爾茲(KURZ)的PM與LK系 列，日本的A、K、H系列，南韓KOLON的SP系列。根據(jù)我們實踐和測試，電化鋁選配主要可參照以下分類：普通產(chǎn)品上的燙金(一般墨色)電化鋁有88—l型、KURZ的PM型；煙包、化妝品等濃墨色的印刷品(包括印金、印銀)的燙金電化鋁有88—2型；煙標、化妝品包裝等細筆跡燙印的電化鋁有88—3、88—4型、PM288等；適用于OPP或PET覆合的紙張以及有UV油墨的紙板、上光紙等產(chǎn)品燙印電化鋁有88—4型、K系列、LK系列、以及SP系列。⑧沒有正確掌握燙金設(shè)備以及燙壓時間與燙印溫度之間的匹配，影響燙印牢度和圖文輪廓的清晰度。由于設(shè)備、被燙印材質(zhì)的不同，燙壓時間、燙印溫度都有不盡相同。例如，高速圓壓圓機速快，壓印線接觸，燙印溫度就要高于圓壓平或平壓平。一般情況下，圓壓圓燙印溫度在190℃～220℃，圓壓平約在130℃～150℃，平壓平約在100℃～120℃。當然，燙壓時間、燙印溫度與生產(chǎn)效率很大程度上還受到電化鋁轉(zhuǎn)移性能的制約。

1.化學(xué)蝕刻方法，其使用在用強酸或堿直接接觸的化學(xué)溶液，是當前為未受保護的部件的腐蝕的最常用的方法。的優(yōu)點是，蝕刻深度可以深或淺，并且蝕刻速度快。缺點是耐腐蝕液體有很大的對環(huán)境的污染，尤其是蝕刻液不容易恢復(fù)。并在生產(chǎn)過程中，危害工人的健康。

據(jù)介紹，由中國微半導(dǎo)體公司生產(chǎn)的刻蝕機已達到5納米的工藝技術(shù)水平，每個的價格高達20萬元。雖然價格較高，但仍然受到TSMC青睞。目前，中國微半導(dǎo)體公司生產(chǎn)的芯片5納米刻蝕機采用了蘋果系列TSMC生產(chǎn)的A14麒麟1020系列芯片。

為了調(diào)整對應(yīng)于所述的酸性部分和/或在蝕刻溶液中的硝酸的濃度的濃度，它是足夠的蝕刻后，以磷酸和/或硝酸添加到蝕刻溶液。然而，在本發(fā)明的一個優(yōu)選實施例中，蝕刻被添加到剩余的硝酸和/或在從所述蝕刻步驟中的提取后的蝕刻溶液磷酸，以及蝕刻液的溶液的濃度后的一部分被調(diào)整為相同的值是蝕刻對應(yīng)于蝕刻液中的酸成分的濃度之前。

cl-濃度對蝕刻速度的影響如圖5-14所示。從圖5-14中可出，當鹽酸濃度升高時，蝕刻時間減少。在含有6mol鹽酸的蝕刻液中蝕刻速度是在水溶液巾的三倍，并且還能提高溶銅量。但是鹽酸濃度不可超過6mol。高于6mol的鹽酸濃度隨酸度增加。由于同離子效應(yīng)，使CuCI2溶解度迅速降低，同時高酸度的蝕刻液也會造成對設(shè)備腐蝕性增大。

蝕刻厚度范圍：通常，金屬蝕刻工藝的范圍是0.02-1.5mm之間。當材料的厚度大于1.5時，蝕刻處理需要很長的時間和成本是非常高的。不建議使用蝕刻工藝。沖壓，線切割或激光是可選的。但是，如果有一個半小時的要求，你需要使用蝕刻工藝！

在照相防腐技術(shù)的化學(xué)蝕刻過程中，最準確的一個用于處理集成電路的各種薄的硅晶片。切割幾何結(jié)構(gòu)也非常小。為了確保半導(dǎo)體組件將不以任何方式受到影響，和所使用的各種化學(xué)品，如各種清潔劑和各種腐蝕性劑，都非常高純度的化學(xué)試劑。蝕刻劑的選擇是由不同的加工材料確定，例如：硅晶片使用氫氟酸和硝酸，和氧化硅晶片使用氫氟酸和NH4F。當化學(xué)蝕刻集成電路，被蝕刻的切口的幾何形狀是從化學(xué)蝕刻的在航空航天工業(yè)的幾何形狀沒有什么不同。然而，二者之間的蝕刻深度差是幾個數(shù)量級，并且前者的蝕刻深度小于1微米。然后，它可以達到幾毫米，甚至更深。

1、根據(jù)用途分類，刨刀可分為平面刨刀、切刀、偏刀、彎頭刨槽刀、內(nèi)孔彎頭刨刀和成形刨刀等。(1)平面刨刀：用于粗、精刨平面。(2)偏刀：用

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