常平Logo蝕刻加工廠
對(duì)于0.1毫米材料,特別要注意在預(yù)蝕刻過程中,如涂覆和印刷,這是因?yàn)椴牧系某叽缫灿绊懏a(chǎn)品的最終質(zhì)量。該材料的尺寸越大,越容易變形。如果材料的尺寸過小,則可能在機(jī)器被捕獲。
提高板之間的蝕刻加工速度的一致性:蝕刻在連續(xù)板可導(dǎo)致更均勻的蝕刻過程在速率更均勻地蝕刻襯底。為了滿足這一要求,必須確保的是,腐蝕劑始終處于最佳的腐蝕過程。這需要蝕刻溶液的選擇,這是很容易再生和補(bǔ)償,并且其蝕刻速度是很容易控制。選擇自動(dòng)控制過程和設(shè)備,其提供恒定的操作條件和各種溶液參數(shù)。這可以通過控制溶解的銅,pH值來實(shí)現(xiàn),所述溶液的濃度,溫度的量,流動(dòng)溶液的均勻性(噴霧系統(tǒng)噴嘴或噴嘴和擺動(dòng))。
蝕刻液的磷酸濃度通常大于0.1??重量更大,優(yōu)選大于0.5??重量,特別優(yōu)選大于3??重量,通常小于20??重量,優(yōu)選小于15??重量特別優(yōu)選小于12??重量,更優(yōu)選小于8?y重量?越高硝酸濃度,更快的蝕刻速度。然而,當(dāng)硝酸濃度過高,形成蝕刻的金屬的表面上的氧化膜,并且蝕刻速度降低的傾向。感光性樹脂(抗蝕劑)存在于蝕刻金屬氧化將會(huì)惡化和邊緣蝕刻的量將增加。因此,酸濃度優(yōu)選從上述范圍內(nèi)選擇。
晶片被用作氫氟酸和HNO 3,和晶片被用作氫氟酸和NH4F氧化硅硅:蝕刻劑的選擇是根據(jù)不同的加工材料確定,例如。當(dāng)集成電路被化學(xué)蝕刻,被蝕刻的切口的幾何形狀是從幾何切穿在航空航天工業(yè)的化學(xué)蝕刻沒有什么不同。然而,它們之間的蝕刻深度差異是幾個(gè)數(shù)量級(jí),且前者小于1微米。然后,它可以達(dá)到幾毫米,甚至更深。
這是一種處理技術(shù),它不能改善手工藝領(lǐng)域,因?yàn)楫?dāng)時(shí)數(shù)百年前,金屬蝕刻僅由處理器本身的技術(shù)水平?jīng)Q定的,不是每個(gè)人都可以學(xué)習(xí)這個(gè)技術(shù),這個(gè)時(shí)期主要是在生產(chǎn)的圖案,如凱嘉或其它手工藝使用。使用的抗腐蝕材料是唯一的天然有機(jī)材料如天然樹脂,石蠟,桐油等多數(shù)早期蝕刻劑從醋和鹽制成。當(dāng)時(shí),圖形制作只能由手繪圖,或者由處理器來完成。傳下來的數(shù)據(jù)主要局限于手稿,并且不形成分,也不能談?wù)撐g刻工件的圖形的一致性的深度和準(zhǔn)確性。在17世紀(jì),金屬蝕刻技術(shù)是由于強(qiáng)烈的蝕刻酸和新開發(fā)的堿如硫酸,鹽酸,氫氟酸,硝酸,和苛性堿。工匠從事金屬,在此期間蝕刻也可以被稱為一位藝術(shù)家。在這個(gè)行業(yè)從事,你必須有繪畫天賦,因?yàn)槊總€(gè)模式是由運(yùn)營(yíng)商根據(jù)自己的需要繪制。但從繪畫藝術(shù)的角度來看,沒有必要成為各項(xiàng)工作完全一致。不一致被稱作藝術(shù)。該處理技術(shù)的真正崛起需要的工藝作為一個(gè)迫切需要工業(yè)和軍事,特別是軍事上的需要。可以說,軍事或戰(zhàn)爭(zhēng)是科學(xué)技術(shù)發(fā)展的真正動(dòng)力。雖然他們都熱愛和平,這的確是這樣的。
根據(jù)不同的材料和不同的蝕刻處理的要求,化學(xué)蝕刻方法可以在酸性或堿性蝕刻溶液進(jìn)行選擇。在蝕刻工藝期間,無論是深蝕刻或淺蝕刻,被蝕刻的削減是基本上相同的,并且在子層和圓弧的橫截面形狀可衡量的橫向蝕刻。只有當(dāng)蝕刻過程是從入口點(diǎn)遠(yuǎn)離將一個(gè)“直線邊緣”的矩形橫截面在行業(yè)形成。為了實(shí)現(xiàn)這一步,使材料在一段時(shí)間后,該材料已被切割并蝕刻,使得所述突出部可被完全切斷。它也可以從這個(gè)看出,使用化學(xué)方法精密切割只能應(yīng)用于非常薄的金屬材料。的能力,以化學(xué)蝕刻以形成直段取決于用于蝕刻設(shè)備上。和治療方法,在使用這種類型的設(shè)備的常用的噴灑裝置以恒定的壓力,并且蝕刻噴射力將保證暴露于它的材料將迅速溶解。溶解也包含在圓弧狀的上述中央部。以下是與蝕刻的金屬相容的強(qiáng)腐蝕性也很重要。蝕刻劑的強(qiáng)度,噴霧壓力密度,蝕刻溫度,設(shè)備的傳輸速率(或蝕刻時(shí)間)等。
無氧銅是純銅不包含氧或任何脫氧劑的殘基。但實(shí)際上它仍然含有氧和一些雜質(zhì)的一個(gè)非常小的量。根據(jù)標(biāo)準(zhǔn),氧含量不大于0.03?雜質(zhì)總含量不超過0.05?和銅的純度大于99.95·R
腐蝕完畢之后,模具無法發(fā)貨。用于掩蔽操作的涂層或帶必須被去除,并且蝕刻應(yīng)檢查均勻性。例如,蝕刻引起不均勻焊接或模具材料必須進(jìn)行修理。如果必要的話,除去該經(jīng)蝕刻表面在涂覆圖案,僅留下非加工面作為掩模,然后執(zhí)行光刻或酸洗操作,或執(zhí)行噴砂使被腐蝕的表面均勻且有光澤。