古鎮(zhèn)銘牌蝕刻加工廠

在蝕刻之后，絲網(wǎng)印刷油墨必須被去除。普通抗酸油墨是容易溶于堿。沉浸在40至60g / L的氫氧化鈉溶液中的蝕刻板在50?80℃的溫度下。浸泡幾分鐘后，墨水可以被刪除。

應(yīng)力（拉伸應(yīng)力或內(nèi)應(yīng)力）和腐蝕性介質(zhì)的這種組合被稱為SCC。該SCC它的特點是腐蝕機(jī)械開裂，其可以沿晶界或沿通過擴(kuò)散或發(fā)展而發(fā)展的晶粒形成。因為裂紋的擴(kuò)展是金屬的內(nèi)部，所述金屬結(jié)構(gòu)的強(qiáng)度大大降低，并且在嚴(yán)重的情況下，可能會出現(xiàn)突然損壞。在蝕刻工藝期間的曝光原理簡要分析：預(yù)先定位膜和工件需要被感光，并且圖案被轉(zhuǎn)印到薄膜蝕刻成兩個相同的膜的表面，以通過光被噴霧，或轉(zhuǎn)移到通過光刻法兩個相同的玻璃膜。

1。目的。所謂的目標(biāo)是要通過一定的工藝全過程的清晰輸出，或達(dá)到特定的目的。用于金屬蝕刻，這個目的是滿足設(shè)計圖紙對產(chǎn)品的要求。更具體地，這些要求包括產(chǎn)品的蝕刻尺寸要求和蝕刻后的表面粗糙度要求。

蝕刻過程和側(cè)面腐蝕的準(zhǔn)確度：在蝕刻過程中，存在除了整體蝕刻方法沒有防腐蝕處理。我們一定要注意防腐蝕層。在蝕刻“傳播”的問題，也就是我們常說的防腐蝕保護(hù)。側(cè)腐蝕的尺寸直接相關(guān)的圖案的準(zhǔn)確度和蝕刻線的極限尺寸。

這五個要素相互協(xié)調(diào)彼此。在很短的時間時，中央突起可以被切割到基本上直的邊緣，由此實現(xiàn)更高的蝕刻精度。在照片中的腐蝕保護(hù)技術(shù)的化學(xué)蝕刻過程中，最準(zhǔn)確的一個用于處理硅晶片的集成電路的各種薄層。切割幾何結(jié)構(gòu)也非常小。這些部件不以任何方式受到影響，和所使用的各種化學(xué)品，如各種清潔劑，各種腐蝕劑，等等，都是非常高的純度化學(xué)試劑。

（2）刪除多余的大小。如不銹鋼彈簧鋼絲，導(dǎo)線必須是φ0.80.84，實際線徑為0.9。如何統(tǒng)一成品φ0.80.84，如何有效地去除在熱處理過程在這個過程中產(chǎn)生的毛刺和氧化膜？如果機(jī)械拋光和夾緊方法用于去除毛刺，其直徑和比例在圓周上被均勻地除去從0.06至0.1mm正比于鋼絲。不僅是加工工藝差，效率低，加工質(zhì)量也難以保證。化學(xué)拋光的特殊解決方案可以實現(xiàn)毛刺和規(guī)模在同一時間的目的，并均勻地去除多余的導(dǎo)線直徑。另一個例子是，對于不銹鋼一些件，尺寸較大，并且用于電化學(xué)拋光的特殊溶液也可以用于適當(dāng)?shù)販p小厚度尺寸，以滿足產(chǎn)品尺寸要求。

側(cè)蝕的量主要受金屬材料。在幾種常用的金屬材料，銅具有最小側(cè)腐蝕和鋁具有最大的側(cè)腐蝕。選擇一個更好的蝕刻劑，雖然在蝕刻速度的增加并不明顯，但它的確能提高金屬的上側(cè)蝕刻量。如果您想了解更多關(guān)于關(guān)于蝕刻加工行業(yè)的最新信息，請登錄我們的官方網(wǎng)站http://www.gzxdmm.com/我們將為您帶來更多實用的小知識。

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