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這些五行相互協調。在很短的時間時，中央突起可以被切割到基本上直的邊緣，由此實現更高的蝕刻精度。在防腐蝕技術在光化學蝕刻過程中，最準確的一個用于處理集成電路的各種薄層在硅晶片上。切割幾何結構也非常小。這些部件不以任何方式受到影響，和所使用的各種化學品，如各種清潔劑，各種腐蝕劑，等等，都是非常高純度的化學試劑。
感光性粘接劑或干膜抗蝕劑層均勻地涂布在一個干凈的銅包覆板，并根據曝光，顯影而獲得的電源電路的圖像，并且所述固體膜和感光板的蝕刻。的膜被去除之后，它經歷了必要的機械加工和制造過程，最后將表面涂層進行，包裝和印刷字符和符號成為成品。這種類型的處理技術的特征在于，高精密的圖形和制造周期短的時間，這是適合于大量生產和各種類型的制造。用干凈的覆銅箔層壓板的銅表面上的電源電路圖案的預先制作的模板被使用，并且刮板用于打印的銅箔表面上的防腐原料，得到的印刷物的圖案。干燥后，在有機化學蝕刻處理的情況下，以去除未包括的打印材料的裸銅，最終的打印材料被去除，這是所需要的功率電路圖案的一部分。這種類型的方法可以進行大型專業(yè)生產和制造，具有大的生產量和成本低，但精度不媲美的光化學蝕刻工藝。
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的主要應用是：蝕刻過程。此過程可以有效地匹配所使用的材料的厚度和解決不銹鋼小孔加工的問題。特別是對于一些小的孔密度，高容量的要求，也有非常獨特的加工方法。將處理過的不銹鋼小孔具有相同的孔壁，孔均勻的尺寸和圓度好無毛刺。