東城鋁牌蝕刻技術(shù)

曝光是在金屬蝕刻工藝的一個特別重要的項目。曝光的質(zhì)量直接影響到產(chǎn)品的質(zhì)量。曝光的質(zhì)量蝕刻后直接影響到產(chǎn)品的精度。對于超精密的產(chǎn)品，即使是輕微的偏差精確度是太糟糕了。因此，曝光設(shè)備和技術(shù)人員也對質(zhì)量控制的關(guān)鍵點。由易格硬件使用的曝光機進口精密設(shè)備。曝光運營商有15年的技術(shù)經(jīng)驗。設(shè)備和人員都在硬件的蝕刻和曝光工藝中使用。能保證產(chǎn)品的質(zhì)量。

蝕刻工藝具有較高的生產(chǎn)率，比沖壓效率更高，開發(fā)周期短，和快速調(diào)節(jié)速度。最大的特點是：它可以是半的時刻，它可以對相同的材料有不同的影響。他們大多使用LOGO和各種精美圖案。這是什么樣的影響無法通過沖壓工藝來實現(xiàn)！蝕刻方法包括濕法化學(xué)蝕刻和干式化學(xué)蝕刻：干法蝕刻具有廣泛的應(yīng)用范圍。由于強烈的蝕刻方向和精確的過程控制中，為了方便，沒有任何脫膠，以所述基板和用染料污染沒有損害。蝕刻以蝕刻掉光刻膠掩模，例如氧化硅膜，金屬膜和其他基材的未處理面，使得在該區(qū)域中的光致抗蝕劑掩模被保持，從而使所希望的表面可以接地木材圖案。用于蝕刻的基本要求是，該圖案具有規(guī)則的邊緣，線條清晰，和圖案之間的微小差異，也沒有損壞或侵蝕到光致抗蝕劑膜和其掩蔽表面。蝕刻含氟氣體是電子氣的一個重要分支。這是一個不可缺少的原料用于生產(chǎn)超大規(guī)模集成電路，平板顯示裝置，太陽能電池，并在電子工業(yè)中的光纖。它被廣泛用于薄膜，蝕刻，摻雜，氣相沉積和擴散，和其它半導(dǎo)體工藝。該“指導(dǎo)目錄產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)調(diào)整（2011年版）（修訂版）”中包含的產(chǎn)品和鼓勵類產(chǎn)業(yè)，國家發(fā)展目錄，國家發(fā)展和改革委員會，以及電子氣體。

現(xiàn)在出現(xiàn)在市場1所述的自動化學(xué)蝕刻機使用高壓噴霧和蝕刻板的直線運動，以形成一個連續(xù)的和不間斷的饋送狀態(tài)腐蝕工件以提高生產(chǎn)效率; 2.？蝕刻和蝕刻所述金屬板的均勻性比??蝕刻的有效區(qū)域中的改善的蝕刻效果，速度和操作者的環(huán)境和便利性方面更好; 3.經(jīng)過反復(fù)實驗，噴霧壓力為1-2KG /厘米2。上待蝕刻的工件的剩余蝕刻污漬可以被有效地除去，從而使蝕刻速度在傳統(tǒng)的蝕刻方法大大提高。由于蝕刻機液體可以再循環(huán)和使用，該產(chǎn)品可以大大減少蝕刻的成本和實現(xiàn)環(huán)保處理的要求。

冷熱交換機：彩色電泳對槽液溫度控制要求較高，其槽液溫度波動不宜太大，本設(shè)備選用進口名牌變頻壓縮機及電控單元控制、制冷制熱分閥控制、共管循環(huán)，可一機多槽配置。

6、其它蝕刻產(chǎn)品：電蝕片、手機芯片返修用BGA植錫治具、柔性線路板用五金配件、IC導(dǎo)線框、金屬眼鏡框架、蒸鍍罩、蒸鍍掩膜金屬片等。

3.對于具有矩形輪廓，當(dāng)長側(cè)大于或等于短邊的1.5雙，它會自動搜索方形沖壓模具，其是與矩形的短邊相一致：搜索橢圓槽或具有相同寬度的槽。如果沒有為一個圓形沖壓模具沒有環(huán)形槽，直接使用模具。如果模具為上述兩個步驟以后沒有確定，你可以考慮使用一個圓形模具沖壓方形或直線或圓弧。

此外，厚度和蝕刻材料的圖案會影響蝕刻的精確性。根據(jù)產(chǎn)品的類型，服用超薄不銹鋼材料的一般蝕刻為例，高端精密蝕刻的精度??可以達到+/-0.005毫米，與一般的蝕刻精度通常為+/-0.05毫米。

處理步驟：在接收了工件時，在這個過程1.進料檢驗，客戶的需求，第一，我們必須通過檢查，也就是我們需要清潔和擦拭的過程中電流IQC工作工件，并要求客戶提供純正的產(chǎn)品，然后仔細檢查即將到來的材料，以消除缺陷的產(chǎn)品，以確保進口產(chǎn)品是好產(chǎn)品。

7、裝飾品類：不銹鋼腐蝕片、玩具電蝕片、燈飾片、（銅、不銹鋼）工藝品、銅標牌、銅吊扣等以上這些產(chǎn)品外觀漂亮、光潔度好、加工精密、質(zhì)優(yōu)價廉。提供蝕刻加工解決方案-請聯(lián)系我們！

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