常平蝕刻鋁◆ 微影技術(shù)的後半部,將光罩底膜的光阻進(jìn)行蝕刻,以及進(jìn)行灰化製程將不要的光阻去除。
◆ 微影技術(shù)II包含對(duì)光罩下的光阻進(jìn)行蝕刻和光阻去除。雖然也有不使用光罩,進(jìn)行全面蝕刻的方式,但不包括在微影技術(shù)的範(fàn)圍內(nèi)。
◆ 以光罩進(jìn)行底膜光阻圖案的蝕刻可分乾式和濕式兩種。
◆ 乾式蝕刻是利用電漿,對(duì)底膜就是光阻,產(chǎn)生可進(jìn)行蝕刻的活性種 。
◆ 濕式蝕刻則是將晶圓浸入藥水中進(jìn)行底膜的蝕刻。
◆ 製程的乾式化,可得到與過(guò)去濕式製程完全不同的效果,對(duì)於元件的高積體化、高密度化貢獻(xiàn)良多。
濕式和乾式蝕刻的比較
濕式製程
乾式製程