麻涌蝕刻加工

干膜光致抗蝕膜由聚酯薄膜、光致抗蝕膜及聚乙烯保護(hù)膜三部分組成，如圖3一11所示。

聚酯薄膜足支攆感光膠層的載體，使之涂布成膜，厚度通常為25µm左右，聚酯薄膜在曝光之后顯影之前除去。聚酯膜能防止曝光時(shí)氧氣向抗蝕劑層擴(kuò)散，破壞游離基，引起感光度下降。

聚乙烯薄膜是覆蓋在感光膠層上的保護(hù)膜，其日的是為了防止灰塵等污物粘污—干膜：避免在卷膜時(shí)，抗蝕劑層之問(wèn)相互粘連。聚乙烯膜厚度約為25µm。

光斂抗蝕劑膜為干膜的主體部分，常用的都為負(fù)性感光材料，其厚度視用途不同而異，從十幾個(gè)微米至一百微米不等；通常情況下，感光膠膜越薄，膜層的解像度越高．但膜層的抗化學(xué)藥品性能及物理性能降低；

感光膠層主要由光聚合單體及光引發(fā)劑組成。光聚合單體是光致抗蝕劑膠膜的主要成分，在光引發(fā)劑的存在下，鰹紫外光照射發(fā)生聚合反應(yīng)，生成體型聚合物。經(jīng)感光的部分不溶于顯影劑，而未感光的部分能很好地溶解在顯影劑中而被除去，從而形成抗蝕圖像 感光單體廊用最多的足，多元醇丙烯酸酯類(lèi)及甲基丙烯酸酯類(lèi)。如季戊四醇三丙烯酸酯等。光引發(fā)劑在紫外光照射下，吸收紫外光的能量產(chǎn)生游離基，游離基進(jìn)一步引發(fā)光聚合單體交聯(lián)成為聚合物。

干膜光致抗蝕劑通常使用的光引發(fā)劑是安息香迷、叔丁基蒽醌等迷鍵有機(jī)化合物。在感光膠體層中除了卜述光聚合單體和光引發(fā)劑外還有膠黏劑、增塑劑、增黏劑、色料、溶劑和熱阻聚劑等輔助材料。在這些材料中，膠黏劑是使感光膠各組分粘接成膜，起抗蝕劑的骨架作用，膠黏劑在光聚合過(guò)程巾不參與化學(xué)反應(yīng)；增塑劑可增加千膜抗蝕劑的均勻性和柔韌性，三乙二醇雙醋酸脂常作為增塑劑使用；增黏劑可增加光致抗蝕劑與金屬表面的化學(xué)結(jié)合力，防止因粘接不牢引起膠膜脫落及膠膜邊緣起翹等．常用的增黏劑為苯并三氮唑；添加色料的目的在于使干膜呈現(xiàn)鮮艷的顏色，便于修版和檢查，孔雀石綠、蘇丹蘭等常作為色料添加；溶荊用于溶解感光膠體中的各種組分，通常采用丙酮、乙醇作溶劑；熱阻聚劑是為了防止干膜在生產(chǎn)或儲(chǔ)藏時(shí)因吸收熱能而發(fā)生聚合的一種添加物質(zhì)，如甲氧基酚、對(duì)苯二酚等。

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