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麻涌蝕刻鋁 銀鹽底片制作流程簡圖如圖2—2所示。
(1)曝光：曝光是指底片用制版照相機曝光光源，或光繪儀的激光光源進行光化學(xué)成像的過程。經(jīng)曝光后的底片，銀鹽還原出銀，但這時在底片上看不到圖形，稱為潛像。
(2)顯影：顯影是將經(jīng)曝光形成潛影的底片，放入顯影液中使曝光后的銀鹽還原成黑色銀粒的過程。由于制板底片的感光速度慢，因此可以在較暗的安全燈下進行顯影。當?shù)灼磧擅婧谏跋竦念伾疃纫恢聲r，就應(yīng)當停止顯影，將底片從顯影液中取出經(jīng)水洗、酸性停影后放人定影液中定影。
顯影液是由顯影劑、保護劑、促進劑和抑制劑配制而成。顯影劑的作用是將感光后的銀鹽還原成銀，因此顯影劑都是一些還原荊。常用的顯影劑有對甲氨苯酚磺酸鹽(米吐爾)、菲尼酮和對苯二酚(幾奴尼)。其中對甲氨基苯酚磺酸鹽和菲尼酮是主顯影劑，對苯二酚是輔助顯影劑。保護劑的作用是防止顯影劑氧化而失去顯影作用，常用的保護劑是無水亞硫酸鈉。促進劑是一種可以促進銀鹽還原速度的添加物質(zhì)，常用的促進劑有無水碳酸鹽及KOH等堿性物質(zhì)，但KOH或NaOH不能適用以米吐爾為主顯影劑的配方。抑制劑的作用是在顯影時，抑制沒有感光的銀鹽還原成銀，以防止最影時未曝光的地方產(chǎn)生
灰霧，KBr是常用的抑制劑，它對感光的銀鹽抑制作用弱，對未感光的銀鹽抑制作用強。在菲尼酮顯影配方中，苯駢三氨唑也是常用灰霧抑制劑。
顯影液的溫度對顯影速度影響非常大，顯影溫度越高，顯影速度越快，較為合適的顯影溫度為18℃一25℃。
常用顯影液配方及操作條件見表2—1。
顯影液的配制(以配方1為例)：①量取300mL 30℃～35℃經(jīng)煮沸的純水倒入1L的燒杯中，將米吐爾放人純水中，攪拌使其完全溶解，然后加入對苯二酚，攪拌溶解完全，配成A液；②余下的化學(xué)藥品用同樣的方法溶解在500mL經(jīng)煮沸的純水中配成B液；③在不斷攪拌的條件下，將A液慢慢倒人B液，并加純水至1L即可用于顯影。
(3)水洗：經(jīng)顯影后的底片用流動水沖洗干凈底片表面多余的顯影液，并迅速放人停影液里停影，以防過顯。
(4)停影：顯影并經(jīng)水洗后的底片在1％一3％的HAc溶液巾停影，停影的日的是為了防止底片上殘余的顯影液對底片造成過顯。同時也防止將殘余顯影劑帶人定影液，影響定液效果。這一步并不是必須的過程，顯影并經(jīng)大量水沖洗后也可直接進行定影。
(5)水洗：經(jīng)停影后底片，經(jīng)水沖洗后即可進行定影。
(6)定影：定影就是把底片上沒有曝光還原成銀的銀鹽溶解掉，成為透明部分，形成高反差的底片圖像。定影時問一定要夠，否則底片存放一段時間后容易發(fā)黃。定影時間以底片上沒有曝光的部分完全透明后，再增加1倍時間。定影液的常用配方及操作條件見表2-2。