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高埗蝕刻鋁 蝕刻是將材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)。蝕刻技術(shù)可分為濕蝕刻和干蝕刻，在濕蝕刻中使用化學(xué)溶液，經(jīng)由化學(xué)反應(yīng)以達(dá)到蝕刻的目的，而干蝕刻通常是一種等離子體蝕刻，其作用可能是等離子體撞擊芯片表面的物理作用，或者可能是等離子體活性基與芯片表面原子間的化學(xué)反應(yīng)，甚至也可能是兩者的復(fù)合作用。
1. 晶圓蝕刻