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萬江蝕刻鋁氧化錫/銦氧化錫蝕刻劑TE-100 是應用于微電子行業(yè)的氧化錫/銦氧化錫層的選擇性蝕刻劑，可高效的對陶瓷，絕緣層，半導體和多種金屬底層上的氧化錫/銦氧化錫沉淀膜進行蝕刻，具有邊界清晰，蝕刻速度可控的特性，與正負性光刻膠良好兼容。TE-100 不可用于含鎳，銅，鎳锘合金和鋁的材質。
特性：
外觀--深琥珀色
蝕刻率（室溫25°C）--15-20 ? / sec（浸沒）
工作溫度--40-50 °C
漂洗--去離子水
存儲--20-25 °C
有效期--一年（15-25 °C）
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鉻蝕刻劑Chromium Etchants
1020 and 1020AC
Transene的1020和1020AC鉻蝕刻劑是一種高純度可精確清潔蝕刻鉻或氧化鉻薄膜的硝酸銨鈰產(chǎn)品，1020AC是不含硝酸的低速蝕刻劑，兩種產(chǎn)品均可配合正負性光刻膠使用，1020 為滲入型，最小蝕刻尺寸達到0.2微米，1020AC可完成微細凹槽蝕刻，使用后用去離子水清洗即可
特性
1020 1020AC
外觀： 透明，橙色 透明，橙色
比重 1.127-1.130 1.127-1.130
濾透尺寸 0.2 micron -----
工作溫度 可變 可變
蝕刻率（ 40 °C） 40 ? / sec 32 ? / sec
存儲 室溫 室溫
清洗 去離子水 去離子水
應用：蝕刻溫度根據(jù)膜的厚度不同變化，室溫下蝕刻時間從15秒到60秒。注意：操作必須在通風罩內進行。
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鉻金屬陶瓷蝕刻劑TFE（Chromium Cermet Etchant TFE）
鉻金屬陶瓷蝕刻劑TFE是一種應用于微電子行業(yè)的選擇型鉻蝕刻劑，可高效的蝕刻沉積在銅，鎳，金底層上的鉻薄膜。此種鐵氰酸鉀為主要成份的蝕刻劑僅可和負性光刻劑融合，另外，在TFE是蝕刻氧化鉻，硅化鉻和硅鉻氧化沉積層的最佳選擇。
特性：
外觀： 琥珀色
蝕刻率： 15-20 ? / sec（50 °C）
工作溫度： 40-60 °C
清洗： 去離子水
存儲： 室溫
光刻膠： 負性
兼容金屬：金，銅，鎳
應用：鉻金屬陶瓷蝕刻劑TFE是專用于蝕刻銅，金，鎳材質感光底層上的鉻，氧化鉻，硅化鉻和硅氧化鉻薄膜的蝕刻劑。對于厚度較大的薄膜可以通過加熱到40-60 °C以加快蝕刻速度
剝離劑 剝離劑（stripping agent）能將生物及其生成的粘泥從換熱設備的金屬表面或冷卻塔壁上剝離的藥劑。
顯影液 developer
銀鹽膠片顯影用的藥液稱顯影液。
用于黑白膠片顯影的顯影液稱黑白顯影液，用于彩色膠片顯影的稱彩色顯影液。
顯影液的主要成分是顯影劑。為了完善性能，通常還加一些其他成分，諸如促進顯影的促進劑，防止顯影劑氧化的保護劑，防灰霧生成的灰霧抑制劑和防灰霧劑等。
通過對各組分不同用量的調配可以得到不同性能的顯影液，如微粒顯影液、高反差顯影液等......