海珠鐵板蝕刻技術(shù)
曝光是在金屬蝕刻工藝的一個(gè)特別重要的項(xiàng)目。曝光的質(zhì)量直接影響到產(chǎn)品的質(zhì)量。曝光的質(zhì)量蝕刻后直接影響到產(chǎn)品的精度。對(duì)于超精密的產(chǎn)品,即使是輕微的偏差精確度是太糟糕了。因此,曝光設(shè)備和技術(shù)人員也對(duì)質(zhì)量控制的關(guān)鍵點(diǎn)。由易格硬件使用的曝光機(jī)進(jìn)口精密設(shè)備。曝光運(yùn)營商有15年的技術(shù)經(jīng)驗(yàn)。設(shè)備和人員都在硬件的蝕刻和曝光工藝中使用。能保證產(chǎn)品的質(zhì)量。
如圖1-20中所示,藥液罐的相應(yīng)的腐蝕寬度應(yīng)該是4毫米,加上2倍或略深腐蝕深度,化學(xué)腐蝕槽的最大深度一般應(yīng)約為12毫米,因?yàn)樵谶@種情況下,即使??槽面積是因?yàn)橛眉sy的寬度的防腐蝕膜的大,它會(huì)懸垂像裙子,這將不可避免地導(dǎo)致氣泡的積累,使槽與山區(qū)被稱為周圍的外圍質(zhì)量參差不齊的缺陷。當(dāng)腐蝕深度達(dá)到一定的深度,即使部件或攪拌的溶液被大大干擾,不可能完全消除氣泡的積累,但也有能夠保持足夠的靈活性,一些新的防腐蝕層。你可以做出最好的氣泡,并立即跑開。這是克服深腐蝕水箱的這一缺點(diǎn)的簡(jiǎn)單和容易的方法。
電泳槽:材料PVC,配有漆液主循環(huán)過濾系統(tǒng),采用磁力泵驅(qū)動(dòng),每小時(shí)循環(huán)量4-6次,超濾系統(tǒng)及冷熱交換循環(huán)系統(tǒng)。
銅對(duì)水的污染是印制電路生產(chǎn)中普遍存在的問題,氨堿蝕刻液的使用更加重了這個(gè)問題。因?yàn)殂~與氨絡(luò)合,不容易用離子交換法或堿沉淀法除去。所以,采用第二次噴淋操作的方法,用無銅的添加液來漂洗板子,大大地減少銅的排出量。然后,再用空氣刀在水漂洗之前將板面上多余的溶液除去,從而減輕了水對(duì)銅和蝕刻的鹽類的漂洗負(fù)擔(dān)。
4)蝕刻液的PH值:堿性蝕刻液的PH值較高時(shí),側(cè)蝕增大。峁見圖10-3為了減少側(cè)蝕,一般PH值應(yīng)控制在8.5以下。
這是促進(jìn)和所有腐蝕性條件,這導(dǎo)致催化工藝下點(diǎn)蝕坑下保持。 2.腐蝕氧化鋁膜的,即使它可以溶解在磷酸和氫氧化鈉溶液,即使發(fā)生腐蝕,溶解速率是均勻的。為一體的集成解決方案的溫度升高時(shí),溶質(zhì)的濃度在它增加,這促進(jìn)了鋁的腐蝕。 3.縫隙腐蝕縫隙腐蝕局部腐蝕。當(dāng)在電解質(zhì)溶液中時(shí),形成在電解質(zhì)溶液中的金屬和金屬或金屬和非金屬之間的間隙。金屬部件的寬度足以浸沒介質(zhì),并把介質(zhì)在停滯狀態(tài)。在間隙加速腐蝕的現(xiàn)象被稱為縫隙腐蝕。鋁合金4.應(yīng)力腐蝕開裂(SCC)SCC是在30年代初發(fā)現(xiàn)的。
我們秉著“信譽(yù)、品質(zhì)保障,顧客至上”的宗旨,不斷努力于高新技術(shù)新工藝的改良。我們能夠蝕刻各種金屬如不銹鋼、銅、鋁、鎳、鐵、鋅等,并根據(jù)不同硬度的材質(zhì)來調(diào)整工藝,進(jìn)行精密蝕刻加工。
去年以來,中國微電子5納米刻蝕機(jī)已通過臺(tái)積電,和新聞,就會(huì)很快進(jìn)入臺(tái)積電的5納米芯片生產(chǎn)線將出來。據(jù)最新消息,確實(shí)已經(jīng)今年正式投入生產(chǎn)。已經(jīng)有很多討論有關(guān)互聯(lián)網(wǎng)上的這個(gè)消息,許多人認(rèn)為這是“中國的芯片產(chǎn)業(yè)的曲線上超車?!睋?jù)悉,近年來,95? F公司的芯片在我國制造裝備一直依賴進(jìn)口,核心設(shè)備基本由國外公司壟斷。我們迫切需要國內(nèi)設(shè)備廠商,以及中國微電子技術(shù),這可以說是最好的。
陽極處理又稱為陽極著色處理,也被稱做氧化處理。鋁的陽極處理是金屬表面借由電流作用而形成的一層氧化物膜,顏色豐富、色澤優(yōu)美、電絕緣性好并且堅(jiān)硬耐磨,抗腐蝕性極高。其基本原理為:
2.靜態(tài)除塵,敏化油噴霧劑,和檢查。當(dāng)由IQC加工的工件經(jīng)過IQC檢查,然后切換到下一個(gè)過程:噴涂過敏油,但我們必須施加油靈敏度之前測(cè)試。該產(chǎn)品是在噴涂靜電的過程中,因?yàn)殪o電會(huì)在靜電的過程中會(huì)產(chǎn)生靜電。程度是不同的。