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2.靜態(tài)除塵，敏化油噴霧劑，和檢查。當(dāng)由IQC加工的工件經(jīng)過(guò)IQC檢查，然后切換到下一道工序：噴涂致敏油，但我們必須測(cè)試抹油敏之前，該產(chǎn)品是靜電的過(guò)程中噴灑，因?yàn)樗鼤?huì)產(chǎn)生，靜電過(guò)程中產(chǎn)生不同程度的靜電。

蝕刻過(guò)程和側(cè)面腐蝕的準(zhǔn)確度：在蝕刻過(guò)程中，除了整體蝕刻方法，沒(méi)有防腐蝕處理。我們一定要注意防腐蝕層。在蝕刻“傳播”的問(wèn)題，也就是我們常說(shuō)的防腐蝕保護(hù)。側(cè)腐蝕的尺寸直接相關(guān)的圖案的準(zhǔn)確度和蝕刻線的極限尺寸。

處理技術(shù)，通過(guò)使用該金屬表面上的腐蝕效果，以除去金屬表面上的金屬。 1）該電解蝕刻主要用作導(dǎo)電陰極，和電解質(zhì)被用作介質(zhì)，蝕刻集中在加工部的蝕刻去除方法。 2）化學(xué)蝕刻使用耐化學(xué)腐蝕的涂層，以蝕刻和濃縮期間除去所需要的部分。光刻工藝形成的化學(xué)抗拒。光致抗蝕劑層疊體具有在薄膜上形成一個(gè)均勻的金屬表面，它暴露于原有的板與紫外線等，然后被施加顯影工藝。涂層技術(shù)，以形成耐化學(xué)性涂料，然后將其在化學(xué)或電化學(xué)蝕刻用于溶解在蝕刻槽的酸性或堿性溶液中的金屬的暴露部分的所需的形狀。

這兩個(gè)例子中是非常精確的化學(xué)蝕刻是非常重要的，因?yàn)樗梢晕g刻相同的圖案更深，或者可以實(shí)現(xiàn)每單位面積的更精細(xì)的圖案。對(duì)于后者，多個(gè)電路細(xì)胞可以每單位面積的硅晶片上集成。

非切割法（使用鏡工具）具有滾動(dòng)的以下優(yōu)點(diǎn)：1.增加表面粗糙度，其可基本達(dá)到Ra≤0.08um。 2.糾正圓度，橢圓可以是≤0.01mm。 3.提高表面硬度，消除應(yīng)力和變形，增加硬度HV≥40°4，30后？五個(gè)處理以增加殘余應(yīng)力層的疲勞強(qiáng)度。提高協(xié)調(diào)的質(zhì)量，減少磨損，延長(zhǎng)零部件的使用壽命，但零件的加工成本降低。蝕刻通常被稱為蝕刻，也稱為光化學(xué)蝕刻。它指的是暴露在制版和顯影后在??的保護(hù)膜的除去區(qū)域的蝕刻。當(dāng)蝕刻時(shí)，它接觸的化學(xué)溶液來(lái)實(shí)現(xiàn)溶解腐蝕，形成凹凸或中空模塑的效果。影響。蝕刻是使用該原理定制金屬加工的過(guò)程。

鋁合金4.應(yīng)力腐蝕開(kāi)裂（SCC）SCC是在30年代初發(fā)現(xiàn)的。應(yīng)力（拉伸應(yīng)力或內(nèi)應(yīng)力）和腐蝕性介質(zhì)的這種組合被稱為SCC。所述SCC的特征是腐蝕機(jī)械開(kāi)裂，這可以通過(guò)晶界或沿晶粒擴(kuò)散或發(fā)展的發(fā)展而形成。因?yàn)榱鸭y的擴(kuò)展是金屬的內(nèi)部，所述金屬結(jié)構(gòu)的強(qiáng)度大大降低，并且在嚴(yán)重的情況下，可能會(huì)出現(xiàn)突然損壞。

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