橫瀝Logo蝕刻加工廠
1.化學(xué)蝕刻方法,它使用一種強(qiáng)酸或強(qiáng)堿直接接觸化學(xué)溶液,這是目前在腐蝕未保護(hù)的部分中最常用的方法。的優(yōu)點(diǎn)是,蝕刻深度可以深或淺,并且蝕刻速度快。缺點(diǎn)是耐腐蝕液體有很大的對環(huán)境的污染,尤其是蝕刻液不容易恢復(fù)。而且在生產(chǎn)過程中是危害工人的健康。
蝕刻工藝具有較高的生產(chǎn)率,比沖壓效率更高,開發(fā)周期短,和快速調(diào)節(jié)速度。最大的特點(diǎn)是:它可以是半的時(shí)刻,它可以使在相同的材料有不同的影響。他們大多使用LOGO和各種精美的圖案,這是什么效果沖壓工藝無法實(shí)現(xiàn)的!
當(dāng)普通銅包含氫氣或一氧化碳在晶界處,氫氣或一氧化碳容易與氧化亞銅(銅氧化物)相互作用,以產(chǎn)生高壓水蒸汽或二氧化碳?xì)怏w在還原氣氛,這可以通過裂化導(dǎo)致銅以熱反應(yīng)。這種現(xiàn)象通常被稱為銅的“氫病”。氧氣是有害的銅的可焊性。
當(dāng)使用鋁作為待蝕刻的金屬,它必須除去從0到鋁3以電離它。有銀(1個(gè)值)或銅(2值)進(jìn)行比較,在由于蝕刻速度蝕刻液中的酸消耗急劇降低,有一個(gè)問題,即難以控制蝕刻速度。因此,在間歇方法如浸漬法,一旦蝕刻劑的蝕刻速率大于一定值的情況下,即使蝕刻劑殘留的蝕刻能力的最,它通常是完全丟棄并用一個(gè)新的蝕刻劑替換。有一種所謂的蝕刻劑的使用量和浪費(fèi)是很大的。
蝕刻系統(tǒng)用于鈦合金的選擇:鈦合金只能在氟系統(tǒng)被蝕刻,但在蝕刻鈦合金的過程中,氫脆是容易發(fā)生。氫氟酸和硝酸或氫氟酸和在具有低的鉻蝕刻系統(tǒng)中使用的酸酐罐氟化酸和過氧化氫也可以是混合的制劑。銅的選擇和該合金的蝕刻系統(tǒng):銅的選擇,該合金的蝕刻系統(tǒng)具有自由的更大的程度。通常使用的蝕刻系統(tǒng)是氯化鐵的蝕刻系統(tǒng),酸氯化銅蝕刻系統(tǒng),堿性氯化銅蝕刻系統(tǒng),硫酸 - 過氧化氫蝕刻系統(tǒng),所述氯化鐵的蝕刻系統(tǒng)和氯化銅蝕刻系統(tǒng)大多使用。