橫瀝Logo蝕刻加工廠

1.化學(xué)蝕刻方法，它使用一種強(qiáng)酸或強(qiáng)堿直接接觸化學(xué)溶液，這是目前在腐蝕未保護(hù)的部分中最常用的方法。的優(yōu)點(diǎn)是，蝕刻深度可以深或淺，并且蝕刻速度快。缺點(diǎn)是耐腐蝕液體有很大的對環(huán)境的污染，尤其是蝕刻液不容易恢復(fù)。而且在生產(chǎn)過程中是危害工人的健康。

蝕刻工藝具有較高的生產(chǎn)率，比沖壓效率更高，開發(fā)周期短，和快速調(diào)節(jié)速度。最大的特點(diǎn)是：它可以是半的時(shí)刻，它可以使在相同的材料有不同的影響。他們大多使用LOGO和各種精美的圖案，這是什么效果沖壓工藝無法實(shí)現(xiàn)的！

當(dāng)普通銅包含氫氣或一氧化碳在晶界處，氫氣或一氧化碳容易與氧化亞銅（銅氧化物）相互作用，以產(chǎn)生高壓水蒸汽或二氧化碳?xì)怏w在還原氣氛，這可以通過裂化導(dǎo)致銅以熱反應(yīng)。這種現(xiàn)象通常被稱為銅的“氫病”。氧氣是有害的銅的可焊性。

當(dāng)使用鋁作為待蝕刻的金屬，它必須除去從0到鋁3以電離它。有銀（1個(gè)值）或銅（2值）進(jìn)行比較，在由于蝕刻速度蝕刻液中的酸消耗急劇降低，有一個(gè)問題，即難以控制蝕刻速度。因此，在間歇方法如浸漬法，一旦蝕刻劑的蝕刻速率大于一定值的情況下，即使蝕刻劑殘留的蝕刻能力的最，它通常是完全丟棄并用一個(gè)新的蝕刻劑替換。有一種所謂的蝕刻劑的使用量和浪費(fèi)是很大的。

蝕刻系統(tǒng)用于鈦合金的選擇：鈦合金只能在氟系統(tǒng)被蝕刻，但在蝕刻鈦合金的過程中，氫脆是容易發(fā)生。氫氟酸和硝酸或氫氟酸和在具有低的鉻蝕刻系統(tǒng)中使用的酸酐罐氟化酸和過氧化氫也可以是混合的制劑。銅的選擇和該合金的蝕刻系統(tǒng)：銅的選擇，該合金的蝕刻系統(tǒng)具有自由的更大的程度。通常使用的蝕刻系統(tǒng)是氯化鐵的蝕刻系統(tǒng)，酸氯化銅蝕刻系統(tǒng)，堿性氯化銅蝕刻系統(tǒng)，硫酸 - 過氧化氫蝕刻系統(tǒng)，所述氯化鐵的蝕刻系統(tǒng)和氯化銅蝕刻系統(tǒng)大多使用。

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