光化學(xué)蝕刻工藝可以用在很多的金屬加工中，包括壓模、沖模、沖孔、激光和水射流切割以及線切割等。它的特殊優(yōu)勢包括可以加工厚度小為0.0005英寸的非常薄的材料可以加工復(fù)雜的幾何結(jié)構(gòu)，可以實現(xiàn)精確到金屬厚度10％的尺寸公差；可以快速處理小批量或大批量產(chǎn)品，并且成本低廉。另外，光刻不會在金屬中產(chǎn)生任何熱應(yīng)力或機(jī)械變形。下面溢格來為大家介紹一下這種工藝的公差和特征尺寸是多少。

光化學(xué)蝕刻工藝采用價格比較低但是可以快速成型的工具，可以適應(yīng)一系列零件結(jié)構(gòu)或單個結(jié)構(gòu)的多次重復(fù)以加快開發(fā)過程。可以在2到3天內(nèi)用0.02?1.0 mm的厚度的金屬板加工光蝕刻的零件。零件的尺寸范圍很廣，范圍從0.004英寸零件到0.100英寸零件和24×60英寸零件。

通過光化學(xué)蝕刻產(chǎn)生的特征的位置公差通常在標(biāo)稱圖的0.001英寸以內(nèi)。蝕刻的尺寸公差是材料厚度和板尺寸的函數(shù)。一般規(guī)則是，公差越大，板的尺寸越大，零件成本越低。

對于小于0.010英寸的厚度，可以達(dá)到的小公差范圍是材料厚度的10％。對于厚度為0.010?0.020英寸的零件，公差范圍為0.0015?0.0025英寸。對于0.021?0.035英寸的厚度，比較經(jīng)濟(jì)的公差是0.005英寸。對于超過0.035英寸的厚度，尺寸公差帶將大約等于材料厚度的20％。

對于厚度小于0.02英寸的材料，小的孔或微槽的尺寸需要至少為材料厚度的110％；對于厚度超過0.020英寸的金屬，它是材料厚度的120％?？谆虬疾壑g的比較薄區(qū)域需要至少等于材料厚度。內(nèi)半徑和外半徑的小尺寸等于材料厚度。

以上即是溢格關(guān)于光化學(xué)蝕刻工藝的公差和特征尺寸的相關(guān)介紹，希望可以幫到大家。www.gzxdmm.com

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