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寮步腐蝕加工 顯影使用1％的Na0H溶液，韞度20℃～25℃。濕膜顯影所使用堿度和溫度都比干膜低，因為顯影溫度和濃度高會破壞膠膜的表面硬度和耐化學性。因此濕膜適宜用較低的溫度和濃度進行顯影。
經涂覆干燥后的板子應盡快進行曝光顯影處理，不易長時間放置以防止感光樹酯的自然聚合，在安全燈及室溫環(huán)境內放置時間以不超過一個工作日為度。超過這個時間應退掉感光膠膜重新進行涂覆。經濕膜法制作的圖文基本不需要進行修版工作。
去膜方式和干膜去膜相同，在此亦不重復。
用液體光致抗劑不僅提高了制作的精度和合格率，而且降低了生產成本，無需對原有設備進行更新和改造，操作工藝也易于掌握。但溶體光致抗蝕刻的同形成分只有70％左右，其余部分大都為助劑、溶劑、引發(fā)劑等。這些溶劑的揮發(fā)在一定程度上對環(huán)境帶來一定污染，對操作人員造成一定危害，所以在操作巾需要有較好的通風設施，并穿戴必要的防護用品。