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寮步腐蝕加工 顯影使用1％的Na0H溶液，韞度20℃～25℃。濕膜顯影所使用堿度和溫度都比干膜低，因?yàn)轱@影溫度和濃度高會(huì)破壞膠膜的表面硬度和耐化學(xué)性。因此濕膜適宜用較低的溫度和濃度進(jìn)行顯影。
經(jīng)涂覆干燥后的板子應(yīng)盡快進(jìn)行曝光顯影處理，不易長時(shí)間放置以防止感光樹酯的自然聚合，在安全燈及室溫環(huán)境內(nèi)放置時(shí)間以不超過一個(gè)工作日為度。超過這個(gè)時(shí)間應(yīng)退掉感光膠膜重新進(jìn)行涂覆。經(jīng)濕膜法制作的圖文基本不需要進(jìn)行修版工作。
去膜方式和干膜去膜相同，在此亦不重復(fù)。
用液體光致抗劑不僅提高了制作的精度和合格率，而且降低了生產(chǎn)成本，無需對原有設(shè)備進(jìn)行更新和改造，操作工藝也易于掌握。但溶體光致抗蝕刻的同形成分只有70％左右，其余部分大都為助劑、溶劑、引發(fā)劑等。這些溶劑的揮發(fā)在一定程度上對環(huán)境帶來一定污染，對操作人員造成一定危害，所以在操作巾需要有較好的通風(fēng)設(shè)施，并穿戴必要的防護(hù)用品。