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高埗腐蝕加工 液體光致抗蝕劑的感光有效波長(zhǎng)為300um～400mum，因此用于干膜曝光的設(shè)備亦可用于濕膜曝光，曝光能最100MJ／cm2～300MJ／cm2。因烘烤后的硬度還不足1H，因此在曝光定位時(shí)需特別小心，以防劃傷。雖然濕膜適用的曝光量范圍較寬，但為了增加膜層的抗蝕和抗電鍍能力，以取高限曝光為宜。其感光速度與干膜相比要慢得多，所以要使用高功率曝光機(jī)。當(dāng)曝光過(guò)度時(shí)，正像導(dǎo)線圖形易形成散光側(cè)蝕，造成線寬減少，反之負(fù)像導(dǎo)線圖形形成散光擴(kuò)大，線寬增加，當(dāng)曝光不足時(shí)，膜層上出現(xiàn)針孔、砂眼等缺陷。