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高埗蝕刻鋁顯影
顯影是用5‰～12‰的Na2CO3，溶液，顯影溫度30℃-40℃。顯影機(jī)理是感光膜中未感光部分的活性基團(tuán)與稀堿溶液反應(yīng)生成可溶性物質(zhì)而溶解下來，顯影時活性基團(tuán)羧基一COOH與Na2CO3反應(yīng)，生成親水性基團(tuán)一COONa，從而把未曝光的部分溶解下來，而曝光部分的干膜不被溶解。
掌握正確的娃影時間對保證顯影質(zhì)量至關(guān)重要，如果顯影時間不足，未聚合的光致抗蝕劑得不到充分的清潔顯影，未感光的抗蝕劑殘膠可能會留在金屬表面，造成蝕刻和電鍍后的圖形失真。如果顯影時間過度，已聚合的光致抗蝕膜由于與顯影液接觸時間過長，而發(fā)毛、失去光澤，在蝕刻和電鍍過程中容量產(chǎn)生圖形邊緣抗蝕膜起層或脫落。正確的顯影時間主要根據(jù)干膜提供的數(shù)據(jù)再經(jīng)多次實(shí)驗(yàn)來確定，顯影液配方及操作方法覓表3—9。
停影
顯影并經(jīng)水洗后即可放在稀酸中停影，停影的目的是用酸中和掉版面的殘余堿液。以防止過顯現(xiàn)象的發(fā)生。停影配方及操作條件見表3一10。