高埗蝕刻鋁顯影

顯影是用5‰～12‰的Na2CO3，溶液，顯影溫度30℃-40℃。顯影機(jī)理是感光膜中未感光部分的活性基團(tuán)與稀堿溶液反應(yīng)生成可溶性物質(zhì)而溶解下來(lái)，顯影時(shí)活性基團(tuán)羧基一COOH與Na2CO3反應(yīng)，生成親水性基團(tuán)一COONa，從而把未曝光的部分溶解下來(lái)，而曝光部分的干膜不被溶解。

掌握正確的娃影時(shí)間對(duì)保證顯影質(zhì)量至關(guān)重要，如果顯影時(shí)間不足，未聚合的光致抗蝕劑得不到充分的清潔顯影，未感光的抗蝕劑殘膠可能會(huì)留在金屬表面，造成蝕刻和電鍍后的圖形失真。如果顯影時(shí)間過(guò)度，已聚合的光致抗蝕膜由于與顯影液接觸時(shí)間過(guò)長(zhǎng)，而發(fā)毛、失去光澤，在蝕刻和電鍍過(guò)程中容量產(chǎn)生圖形邊緣抗蝕膜起層或脫落。正確的顯影時(shí)間主要根據(jù)干膜提供的數(shù)據(jù)再經(jīng)多次實(shí)驗(yàn)來(lái)確定，顯影液配方及操作方法覓表3—9。

停影

顯影并經(jīng)水洗后即可放在稀酸中停影，停影的目的是用酸中和掉版面的殘余堿液。以防止過(guò)顯現(xiàn)象的發(fā)生。停影配方及操作條件見(jiàn)表3一10。

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