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石碣蝕刻鋁
光刻技術(shù)目前研究的熱點(diǎn)是將光刻光源的波長(zhǎng)推向極短波長(zhǎng)，而美國(guó)馬里蘭大學(xué)的一個(gè)研究小組則在研究一種基于可見(jiàn)光波長(zhǎng)的多光子光阻膠技術(shù)，這種光刻技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)納米級(jí)的光刻解析度，其解析度與曝光時(shí)間成反比。