石龍蝕刻加工 技術(shù)要求規(guī)定，光聚臺后的干膜抗蝕層，應(yīng)能耐Fecl₃蝕刻液、(NH₄)₂s₂0₃蝕刻液、酸性cucl2蝕刻液、H₂SO₄一H₂O₂蝕刻液的蝕刻。在上述蝕刻液中當(dāng)溫度為50℃～550℃時，干膜表面應(yīng)無發(fā)毛、滲漏、起翹和脫落現(xiàn)象發(fā)生。在酸性光亮鍍銅、氟硼酸鹽普通鍍鉛錫合金或光亮鍍鉛錫臺金、光亮鍍鎳及卜述名種電鍍前酸性處理溶液中，聚合后的干膜抗蝕層應(yīng)無表面發(fā)毛、滲鍍、起翹和脫落現(xiàn)象發(fā)生。但經(jīng)聚臺后的干膜不抗酸性硫脲溶液，所以使用干膜的圖形不可以進(jìn)行圖形化學(xué)鍍錫。

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