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長安蝕刻鋁 曝光是在紫外光照射下，光引發(fā)劑吸收光能分解成游離基，游離基再}i發(fā)不聚合單體進(jìn)行聚合交聯(lián)反應(yīng)，反應(yīng)后形成不溶于稀堿溶液的體型大分子結(jié)構(gòu)。曝光一般在自動雙面...
高埗蝕刻鋁 顯影 顯影是用5～12的Na2CO3，溶液，顯影溫度30℃-40℃。顯影機(jī)理是感光膜中未感光部分的活性基團(tuán)與稀堿溶液反應(yīng)生成可溶性物質(zhì)而溶解下來，顯影時活性基團(tuán)羧基一COOH與...
謝崗蝕刻加工 在使用干膜進(jìn)行圖文轉(zhuǎn)移時，由于干膜本身的缺陷或操作工藝不當(dāng)，可能會出現(xiàn)各種質(zhì)量問題，表3-11列舉出了在生產(chǎn)過程中可能產(chǎn)生的故障及排除方法供參考。...
企石蝕刻加工 液體光致抗蝕劑的工藝流程：基板前處理-涂覆一烘烤一曝光一顯影-圖形轉(zhuǎn)移效果自檢-干燥-蝕刻或圖形電鍍-去膜。 1．基板前處理 基板前處理方法及要求和前述下膜工藝...
厚街蝕刻鋁 液體光致抗蝕劑主要采用絲網(wǎng)印刷方式進(jìn)行涂覆。使用不同網(wǎng)目的絲網(wǎng)可得到不同厚度的膜層，如用200目的絲網(wǎng)，絲網(wǎng)印刷后的膜層厚度為(122)um；選用100目一150目的絲網(wǎng)，...